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C 石墨靶材
C 石墨靶材

參考價格

面議

型號

RDB-BC-C

品牌

上海研倍

產(chǎn)地

上海

樣本

暫無
上海研倍新材料科技有限公司

白金會員

|

第1年

|

生產(chǎn)商

工商已核實

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核心參數(shù)
  • 主要材質(zhì):

    C 碳
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1、產(chǎn)品信息   

貨號

厚度

純度(%)

形貌

顏色

RDB-BC-C

可定制

99.9

靶材

黑色或深灰色

2、產(chǎn)品規(guī)格

定制

3、產(chǎn)品概述

石墨(C)靶材通常用于物理蒸發(fā)沉積和磁控濺射等薄膜沉積工藝,主要應(yīng)用于制備碳薄膜、導電薄膜、光學薄膜和其他高科技領(lǐng)域的產(chǎn)品。由于石墨具有良好的導電性和化學穩(wěn)定性,因此在這些領(lǐng)域中得到廣泛應(yīng)用。例如,石墨靶材可用于制備導電薄膜、光學涂層、太陽能電池等。此外,石墨靶材還可用于制備顯示器件、光電器件和其他高端工業(yè)產(chǎn)品。

4、產(chǎn)品用途

高純度:石墨靶材通常具有高純度,能夠滿足各種工藝對材料純度的要求。

工藝適用性:石墨靶材可用于不同的薄膜沉積工藝,包括物理蒸發(fā)沉積和磁控濺射等。

應(yīng)用領(lǐng)域:石墨靶材在導電薄膜、光學涂層、太陽能電池等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用。

性能優(yōu)異:石墨靶材具有良好的導電性和化學穩(wěn)定性,能夠滿足高端產(chǎn)品對材料性能的要求。


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