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產(chǎn)品介紹：

Agilent 7500 ICP-MS電感耦合等離子體質(zhì)譜－ICP-MS，是一種新型的無(wú)機(jī)元素和同位素分析技術(shù)，可快速同時(shí)檢測(cè)周期表上幾乎所有元素。ICP-MS技術(shù)在分析能力上，超過(guò)傳統(tǒng)的無(wú)機(jī)分析技術(shù)如電感耦合等離子體光譜技術(shù)(ICPAES)、石墨爐原子吸收(GFAAS)和汞冷原子吸收技術(shù)(CVAAS)的總和，被稱為當(dāng)代分析技術(shù)*激動(dòng)人心的發(fā)展。

*近，與分離技術(shù)聯(lián)用進(jìn)行環(huán)境毒理、生命科學(xué)等領(lǐng)域的元素價(jià)態(tài)、形態(tài)分析成為ICP-MS技術(shù)應(yīng)用的一個(gè)焦點(diǎn)。

產(chǎn)品參數(shù)：

● 可快速同時(shí)檢測(cè)周期表上幾乎所有元素

● *低的檢出限（低至ppq級(jí)）

● 分析效益/成本比**

● *寬的線性動(dòng)態(tài)范圍—可直接檢測(cè)從ppq到數(shù)百ppm濃度

● 譜線*簡(jiǎn)單、干擾*小，準(zhǔn)確度和精密度好

● 需要樣品量很低(ul至ml)，分析速度很快（1～3分鐘/樣品）

● 檢測(cè)模式靈活多樣

半導(dǎo)體工業(yè)常用材料中超痕量污染物分析：

固體：Si;GaAa單晶切片；石英、碳化硅等爐材料；高純金屬電極等

液體：超純水；HF;HNO3;HCI;H2SO4;H2O2;氨水等

氣體：SiH4;TE0S;NF3;N2等

Agilent ICP-MS可直接分析有機(jī)樣品：

Agilent ICP-MS的高效能、高功率屏蔽矩冷等離子體技術(shù)已被用于測(cè)定一系列有機(jī)樣品的ppt級(jí)痕量污染元素。

● 對(duì)其中一些樣品，其他方法無(wú)法得到滿意的結(jié)果，高功率屏蔽矩冷等離子體技術(shù)是**的分析方法。

● 強(qiáng)堿性清洗劑——四甲基氫氧化氨(TMAH)等

● 常用有機(jī)溶劑——甲苯、二甲苯、IPA等

● 高基體樣品——光刻膠、液晶、BPSG、PSG等揮發(fā)性極強(qiáng)的清洗劑——丙酮、甲醇等。