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Aep Technology NanoMap-D雙模式三維形貌儀

儀器簡介：

NanoMap-D (雙模式) 三維輪廓儀使成像提高到一個(gè)新的水平。它所具有技術(shù)競爭力在于接觸式和光學(xué)三維輪廓儀的**結(jié)合。自動(dòng)采樣運(yùn)動(dòng)和一鍵測量功能使得 NanoMap-D 在三維圖像世界里向前更進(jìn)一步。

通過利用接觸式及非接觸式雙模式基于技術(shù)上的優(yōu)勢獲得獲得全面的表面特性。NanoMap-D給使用者帶來更高水平的的測量靈活性。該平臺(tái)幾乎可以測量任何樣品（甚至包括反射率0%，非平面樣品）

開放式平臺(tái)架構(gòu)采用花崗巖，光學(xué)平面參考平臺(tái)。測試儀可以測試變長200mm的掃描區(qū)域（更大的掃描范圍選擇亦可實(shí)現(xiàn)）。白光干涉儀要配合使用防震平臺(tái)和隔音罩 以確保**的消除噪音。

2維、3維的直方圖等視圖

NanoMap-D 可以呈現(xiàn)2維和3維圖像。利用所提供的軟件，通過設(shè)置一些選項(xiàng)、可以得到客戶需求的的曲線、標(biāo)繪、視圖（例如直方圖及雷達(dá)圖等）

NanoMap-D 可以同時(shí)有探針掃描和樣品臺(tái)掃描兩種模式。探針掃描利用電壓驅(qū)動(dòng)探針在**范圍達(dá)到500x500微米的區(qū)域內(nèi)移動(dòng)并且產(chǎn)生極高分辨率的圖像。樣品臺(tái)掃描則是移動(dòng)樣品臺(tái)來產(chǎn)生高分辨率的圖像。因?yàn)殡妷候?qū)動(dòng)比XY軸運(yùn)動(dòng)更為精確所以探針掃描產(chǎn)生的圖像要遠(yuǎn)遠(yuǎn)好于樣品臺(tái)掃描得到的圖像。通過一個(gè)按鍵開關(guān)，可以選擇三維輪廓儀使用探針掃描模式還是樣品臺(tái)掃描模式。

垂直分辨率高精度掃描0.1nm;大范圍掃描0.01um

垂直測量范圍 高精度掃描**到 5um; 大范圍掃描**到 2000um

掃描范圍達(dá)到 150mm x 150mm (仍可提升)

XY 軸樣品臺(tái)掃描精度0.1um;

探針壓力0.01mg到 100mg

光學(xué)觀測系統(tǒng)視野范圍1.5 x 1.5mm

I明場、暗場調(diào)節(jié)軟件設(shè)置強(qiáng)度

NanoMap-D雙模式掃描三維表面輪廓儀是用于表面結(jié)構(gòu)測量和表面形貌分析的一款測量計(jì)量型設(shè)備。既可以

用于科學(xué)研究，也可以用于工業(yè)產(chǎn)品的檢測。

1、三維表面結(jié)構(gòu)：粗糙度，波紋度，表面結(jié)構(gòu)，缺陷分析，晶粒分析等

2、二維圖像分析：距離，半徑，斜坡，格子圖， 輪廓線等

3、表界面測量：透明表面形貌，薄膜厚度，透明薄膜下的表面

4、薄膜和厚膜的臺(tái)階高度測量

5、劃痕形貌，摩擦磨損深度、寬度和體積定量測量

6、微電子表面分析和MEMS表征

主要特點(diǎn)：

包含接觸式和非接觸式兩種掃描方式

高精度

· **的縱向分辨率：0.1 nm ( 接觸式)；2 nm（光學(xué)非接觸式）

· 對周圍環(huán)境和光源的強(qiáng)適應(yīng)性

· 沒有機(jī)械過濾

寬闊的垂直測量范圍

· 多種選擇光學(xué)頭及接觸式

· 縱向掃描范圍 300 to 3900 μm

· 圖像“縫合”技術(shù)使再大的表面也能呈現(xiàn)在一幅圖像內(nèi)

試用于幾乎所有的表面

· 透明，不透明，反射光強(qiáng)等多種材料

· 垂直臺(tái)階，高寬深比，隆起，孔洞

· 脆性的材料，軟材料，柔性材料表面

· 尖銳的，堅(jiān)硬的，磨損的表面

適應(yīng)性強(qiáng)

· 白光光源，人體安全設(shè)計(jì)，長壽命白光LED 免維護(hù)?？梢杂糜诟鞣N環(huán)境的實(shí)驗(yàn)室，甚至工業(yè)生產(chǎn)環(huán)境。

· 接觸式輪廓儀和非接觸式輪廓儀技術(shù)的**結(jié)合

· 接觸式輪廓儀針尖掃描采用精確的壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)掃描模式，三維掃描范圍從10μm X 10μm 到500μm X 500μm。樣品臺(tái)掃描使用高級(jí)別光學(xué)參考平臺(tái)能使長程掃描范圍到150mm。

· 在掃描過程中結(jié)合彩色光學(xué)照相機(jī)可對樣品直接觀察

· 針尖掃描采用雙光學(xué)傳感器，同時(shí)擁有寬闊測量動(dòng)態(tài)范圍（**至500μm）及亞納米級(jí)垂直分辨率?。??。?１nm ）

· 軟件設(shè)置恒定微力接觸(0.1 to 100 [mg])

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