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Gas loop-V靶電壓氣體閉環(huán)控制器是一種單通道靶電壓信號(hào)輸入，可控制多通道輸出氣體閉環(huán)控制系統(tǒng)，根據(jù)等離子體狀態(tài)，快速調(diào)節(jié)反應(yīng)氣體流量。
工作模式有三種：滯回曲線模式、閉環(huán)反饋控制模式、恒定氣體流量模式。控制軟件操作采用電腦，Windows視窗界面控制，網(wǎng)絡(luò)通訊接口，可以實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程診斷功能。
適用于反應(yīng)濺射中，穩(wěn)定工作點(diǎn)或?qū)崿F(xiàn)高沉積速率；對(duì)多層膜或分段沉積，通過(guò)界面控制就可以完成。搭配快速氣體流量計(jì)控制器MFC，簡(jiǎn)單易用的軟件界面，具有高性價(jià)比和高可靠性等特點(diǎn)。
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