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Rave光罩霧化污染去除系統(tǒng)Rhazer及先進(jìn)光罩修復(fù)系統(tǒng)nm450
Rave光罩霧化污染去除系統(tǒng)Rhazer及先進(jìn)光罩修復(fù)系統(tǒng)nm450

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技術(shù)參數(shù):

Rave 成立于1996,是專業(yè)從事開發(fā)和生產(chǎn)先進(jìn)光罩修復(fù)(Advanced Mask Repair)及光罩霧化污染去除系統(tǒng) ( Haze Removal)的設(shè)備供應(yīng)商。目前,Rave在光罩領(lǐng)域的市場(chǎng)占有率已達(dá)到世界**,成為了這一行業(yè)的***和開拓者。

主要特點(diǎn):

光罩霧化污染去除系統(tǒng) Rhazer

◆霧化污染的去除率高:100% (只去除污染物,無(wú)需去除表面薄膜),無(wú)相位角損失;

◆光罩材料:Chrome, MoSi, Quartz; 尺寸:150mm x 150mm x 25mm;

◆高效:干法工藝,無(wú)需除去薄膜;

◆低CoO:極大地提高了Haze污染的管理效率和光罩使用周期,提升良率;

◆全自動(dòng)化運(yùn)行,占地面積小,無(wú)有害氣體或液體,無(wú)需消耗去離子水、酸液等化學(xué)品。

先進(jìn)光罩修復(fù)系統(tǒng)nm450

◆適用于各種類型的納米級(jí)光罩的修復(fù)并有助于32nm光罩的研發(fā);

◆獨(dú)立的材料合成以及材料接觸面控制(Chrome, MoSi, Quartz, EUV, Foreign Materials)。無(wú)需復(fù)雜的工藝氣體、操作及應(yīng)用十分方便、全自動(dòng)運(yùn)行模式、便利的操作界面控制;

◆極強(qiáng)的深度控制--(z)控制,3 nm (3Σ from Target) 適用于所有材料;

◆邊緣的布置--5 nm (3Σ from Target),適用于所有材料;

◆重復(fù)修補(bǔ)及平面材料去除能力保證了非常寬的“through focus” 傳送窗口;

◆在光罩修復(fù)領(lǐng)域nm450的市場(chǎng)占有率為全球**。

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