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技術(shù)參數(shù)：

Rave 成立于1996，是專業(yè)從事開發(fā)和生產(chǎn)先進(jìn)光罩修復(fù)（Advanced Mask Repair）及光罩霧化污染去除系統(tǒng) ( Haze Removal)的設(shè)備供應(yīng)商。目前，Rave在光罩領(lǐng)域的市場(chǎng)占有率已達(dá)到世界**，成為了這一行業(yè)的***和開拓者。

主要特點(diǎn)：

光罩霧化污染去除系統(tǒng) Rhazer

◆霧化污染的去除率高：100% （只去除污染物，無(wú)需去除表面薄膜），無(wú)相位角損失；

◆光罩材料：Chrome， MoSi， Quartz； 尺寸：150mm x 150mm x 25mm；

◆高效：干法工藝，無(wú)需除去薄膜；

◆低CoO：極大地提高了Haze污染的管理效率和光罩使用周期，提升良率；

◆全自動(dòng)化運(yùn)行，占地面積小，無(wú)有害氣體或液體，無(wú)需消耗去離子水、酸液等化學(xué)品。

先進(jìn)光罩修復(fù)系統(tǒng)nm450

◆適用于各種類型的納米級(jí)光罩的修復(fù)并有助于32nm光罩的研發(fā)；

◆獨(dú)立的材料合成以及材料接觸面控制（Chrome， MoSi， Quartz， EUV， Foreign Materials）。無(wú)需復(fù)雜的工藝氣體、操作及應(yīng)用十分方便、全自動(dòng)運(yùn)行模式、便利的操作界面控制；

◆極強(qiáng)的深度控制--（z）控制，3 nm (3Σ from Target) 適用于所有材料；

◆邊緣的布置--5 nm (3Σ from Target)，適用于所有材料；

◆重復(fù)修補(bǔ)及平面材料去除能力保證了非常寬的“through focus” 傳送窗口；

◆在光罩修復(fù)領(lǐng)域nm450的市場(chǎng)占有率為全球**。