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應(yīng)用領(lǐng)域：應(yīng)用于少量產(chǎn)品的分散研磨，一機多用，操作方便。性能穩(wěn)定，廣泛應(yīng)用于科學(xué)研發(fā)和新產(chǎn)品的研發(fā)。
特性：一機多用，可以實現(xiàn)分散、研磨、攪拌
分散頭拆卸方便，易于清洗
處理范圍大
數(shù)字顯示，智能控制
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在特種陶瓷制備過程中，濕法研磨是得到納米陶瓷粉體比較有效的一種方法，它既避免了化學(xué)法制備納米粉體的高成本，又能達到節(jié)能減排，同時也避免了一些傳統(tǒng)機械法研磨細度難以達到納米級粉體的不足。那么，納米研磨與
由于如何選擇適宜分散劑會直接影響到砂磨機超細研磨效果，因此，一直備受大家關(guān)注。一、研磨過程中的團聚現(xiàn)象在砂磨機中，物料顆粒的粉碎首先主要是依靠高速運動的磨珠間的碰撞、擠壓、剪切實現(xiàn)物料顆粒的粒度變小，
農(nóng)藥懸浮劑體系基礎(chǔ)理論是：1、顆粒粒徑越小，體系沉降速度越低，越穩(wěn)定。2、顆粒粒徑越均勻、奧氏熟化可能性越小、體系越穩(wěn)定。3、濕潤分散劑在農(nóng)藥顆粒表面的覆蓋率、吸附層的厚度、吸附層的牢度以及連續(xù)相中伸
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