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儀器簡(jiǎn)介 英國Hiden公司的HAL 201 RC超高真空殘余氣體分析四極質(zhì)譜儀專為檢測(cè)超高真空容器中的存在組分而設(shè)計(jì)，針對(duì)真空診斷進(jìn)行精確的分析。
離子源為鍍金離子源，適合應(yīng)用在總壓小于5 x 10-10mbar的領(lǐng)域，其系統(tǒng)與EPIC離子/分子分析質(zhì)譜儀完全兼容。
主要特點(diǎn)：·鍍金離子源，以減少離子源脫氣
·氧化物涂層雙銥絲的離子源
·雙法拉第/ Channeltron電子倍增器檢測(cè)器
技術(shù)規(guī)格：·質(zhì)量數(shù)范圍： 200，300 amu
·掃描速度： 100amu/s
·*小掃描步階：0.01amu
·靈敏度： 0.1 ppm～1ppm
·穩(wěn)定性： 24h以上，峰高變化小于±0.5%
·*小檢測(cè)分壓：5 x 10-14 mbar
·**工作壓力：1 x 10-4 mbar
暫無數(shù)據(jù)！
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