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nanoArch S130微納3D打印機(jī)由深圳市摩方材料科技有限公司自主研發(fā)的高精密微納3D打印系統(tǒng)。設(shè)備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術(shù)，是目前行業(yè)極少能實(shí)現(xiàn)超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統(tǒng)。PμSL技術(shù)使用高精度紫外光刻投影系統(tǒng)，將需打印模型分層投影至樹脂液面，快速微立體成型，從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜工業(yè)樣件。該技術(shù)具有成型效率高、加工成本低等突出優(yōu)勢(shì)，被認(rèn)為是目前**有前景的微尺度加工技術(shù)之一。

基本參數(shù)

光源：UV-LED(405nm)

打印材料：硬性樹脂、耐高溫樹脂、韌性樹脂、生物兼容性樹脂等

光學(xué)精度：2μm

打印層厚：5-20μm

打印尺寸：

①模式一：3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)（單投影模式）

②模式二：38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)（拼接模式）

③模式三：50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)（重復(fù)陣列模式）

文件格式：STL

設(shè)備功率：3000W

系統(tǒng)外形尺寸：1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

重量：450kg

電氣要求：200-240V AC，50/60HZ，3kW

應(yīng)用領(lǐng)域：

可廣泛應(yīng)用于力學(xué)超材料、生物醫(yī)療、微機(jī)械結(jié)構(gòu)、微流控、三維復(fù)雜仿生結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域

企業(yè)簡(jiǎn)介：

摩方材料是一家專注于高精密微納3D打印系統(tǒng)及材料的高新技術(shù)企業(yè)，其業(yè)務(wù)涵蓋高精密3D打印設(shè)備的研發(fā)及生產(chǎn)、高精密3D打印定制化產(chǎn)品服務(wù)、高精密3D打印原材料的研發(fā)及生產(chǎn)、高精密3D打印工藝設(shè)計(jì)開發(fā)及相關(guān)技術(shù)服務(wù)，擁有較為完整的高精密微納3D打印產(chǎn)業(yè)生態(tài)鏈。

作為微納3D打印的先行者和***，在三維復(fù)雜結(jié)構(gòu)微加工領(lǐng)域，摩方團(tuán)隊(duì)擁有超過二十年的科研及工程實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)。