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儀器簡(jiǎn)介：

該振動(dòng)拋光機(jī)為標(biāo)樂(lè)公司第二代振動(dòng)拋光產(chǎn)品。目前，已廣泛的應(yīng)用與各大企事業(yè)單位和研究院所大學(xué)。對(duì)于SEM掃描電鏡EBSD分析用樣品的制備非常有效！

技術(shù)參數(shù)：

1、 防腐蝕、防沖撞的整體設(shè)計(jì)；

2、 前置觸摸式液晶顯示屏：操作簡(jiǎn)單，易行，操作包括：?jiǎn)?停顯示（燈）和振動(dòng)速度控制；

3、 數(shù)字式液晶屏可清晰地顯示振動(dòng)電流變化的柱狀曲線；

4、 透明的拋光盤(pán)防塵罩可保證拋光盤(pán)的潔凈；

5、 可快速更換的拋光盤(pán)；

6、 寬大的拋光盤(pán)（12英寸直徑）可承載多至18個(gè)鑲嵌樣品或較大的無(wú)需鑲嵌的樣品；

8、 無(wú)需操作者參與的全自動(dòng)工作過(guò)程；

9、 可調(diào)節(jié)電流的水平振動(dòng)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，轉(zhuǎn)速可達(dá)7200轉(zhuǎn)/秒。

10、有不同尺寸的樣品卡持器供選擇：

（1）用于鑲嵌好的直徑為：1”， 11/4”， 11/2” 的樣品的卡持器；

（2）用于不鑲嵌樣品的配重。

制樣能力強(qiáng)大，可同時(shí)制備多達(dá)18個(gè)樣品

一系列適用于不同鑲嵌樣品的卡具和配重

大型未鑲嵌試樣可輕易拋光。樣品一旦裝載便無(wú)需操作員過(guò)多留心。

標(biāo)準(zhǔn)配置：

1、 振動(dòng)拋光系統(tǒng)；

2、 試用品：少量拋光布、0.05微米的氧化鋁拋光粉、0.02微米的氧化硅拋光液；

3、 說(shuō)明書(shū)

主要特點(diǎn)：

Vibromet 2型振動(dòng)拋光機(jī)對(duì)于較難制備的材料以及需要充分去除應(yīng)力和整體不允許有任何破壞的精密元器件等樣品的表面拋光工作非常適合，從而充分的滿足材料樣品微觀分析（尤其是EBSD分析）的需要。

包括，并不限于以下應(yīng)用：

1、較軟材料，如：鋁、銅、鎳等；

2、表面鍍層；

3、整體不允許做任何破損的精密元器件；

4、高科技超合金；

5、巖相超薄片樣品的制備：拋光后的樣品厚度可達(dá)至5~10微米

EBSD應(yīng)用說(shuō)明：對(duì)于多相（基體+其他相）的材料（不限于多相材料），如果通過(guò)觀察檢驗(yàn)，變形層還存在，那么，就需要利用振動(dòng)拋光機(jī)（Buehler VibroMet 2 Vibratory Polisher）再進(jìn)行20~30分鐘的振動(dòng)拋光以充分的去除變形層，從而獲取符合高品質(zhì)的EBSD實(shí)驗(yàn)圖形要求的樣品制備結(jié)果。所有的金屬材料，即使是硬質(zhì)合金材料，皆可通過(guò)振動(dòng)拋光來(lái)充分的去除殘余變形，從而提高EBSD實(shí)驗(yàn)圖形的品質(zhì)。