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CETAC高能量準(zhǔn)分子激光剝蝕Analyte HE
CETAC高能量準(zhǔn)分子激光剝蝕Analyte HE

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

品牌

產(chǎn)地

美國

樣本

暫無
北京利曼科技有限公司

會(huì)員

|

第2年

|

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儀器簡介

美國CETAC的激光剝蝕/激光燒蝕產(chǎn)品線源于全球行業(yè)翹楚之一的Photon Machines團(tuán)隊(duì)(縮寫PMI),其**代產(chǎn)品于1995年問世,該品牌具有豐富的激光剝蝕產(chǎn)品設(shè)計(jì)、研發(fā)、制造及應(yīng)用經(jīng)驗(yàn),產(chǎn)品線涉及213nm固態(tài)激光、193nm準(zhǔn)分子激光、飛秒激光系統(tǒng)(與ICP-MS聯(lián)用),及CO2和二極管激光熔融系統(tǒng)(與惰性氣體同位素質(zhì)譜聯(lián)用),此外多種高性能配件與更加直觀的分析軟件能夠增強(qiáng)并完善系統(tǒng)的功能,足以為全球元素分析用戶提供先進(jìn)的激光剝蝕技術(shù)。

Analyte HE 準(zhǔn)分子激光剝蝕系統(tǒng)采用精細(xì)化控制單元,高能量的“平頂 (homogenized-flat)”激光和飛速響應(yīng)的“邊對(duì)邊 (shot-to-shot)”技術(shù)帶來高分辨率空間分析能力。創(chuàng)新的“動(dòng)態(tài)剝蝕功能 (fire-on-the-fly)”采用高分辨率XY移動(dòng)平臺(tái)技術(shù),同時(shí)移動(dòng)平臺(tái)能夠?qū)崟r(shí)觸發(fā)激光的發(fā)射,**應(yīng)用于線掃描的深度剝蝕和元素分布圖的分析。另外,高分辨率GigE真彩顯微攝像觀察技術(shù),觀察單元光學(xué)分辨率小于2μm,提供透射、反射和環(huán)形可調(diào)亮度的照明和十字交叉偏振系統(tǒng),能夠?qū)崟r(shí)顯示實(shí)時(shí)縮放的動(dòng)態(tài)寬視野場,實(shí)現(xiàn)快速樣品定位導(dǎo)航。結(jié)合足夠高的剝蝕能量(50J/cm2),Analyte HE能夠輕松剝蝕各類樣品甚至是具有挑戰(zhàn)性的物質(zhì),包括高純石英、彈性碳酸鹽等樣品,同時(shí)光束能量均勻化分布,以確保在整個(gè)光斑尺寸范圍內(nèi)和各種材料上均勻剝蝕。

應(yīng)用范圍

環(huán)境樣品分析

物證樣品分析

地質(zhì)樣品分析

同位素定性分析

同位素分析

元素分布圖繪制分析

流體包裹體分析

深度剝蝕分析

地質(zhì)年代測定

古溫度測定

樣品種類

石英/螢石;方解石/文石/鋯石;透明和半透明類樣品;骨頭/化石;陶瓷;塑料;超薄涂層/鍍層;各種礦物等。

主要性能參數(shù)

超短193nm激光波長

脈沖寬度<20ns

足夠剝蝕石英及螢石的能量密度,高達(dá)50J/cm2

密閉氣室

激光束能量分布均勻化,剝蝕均勻

標(biāo)配100x100mm移動(dòng)平臺(tái),可選150x150mm平臺(tái)

同步“動(dòng)態(tài)剝蝕功能”實(shí)現(xiàn)精確的剝蝕深度控制

獨(dú)立的視頻和激光光學(xué)控制單元,能夠更好的查看樣品剝蝕點(diǎn)

剝蝕光斑范圍1-170μm

標(biāo)配30個(gè)剝蝕光斑,光斑可定制

標(biāo)配HelEx II雙體積雙氣路渦流樣品池

創(chuàng)新點(diǎn)

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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價(jià)比

10分
評(píng)論內(nèi)容
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