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隨著納米技術(shù)的發(fā)展，超臨界流體技術(shù)因其獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)在超細(xì)顆粒制備的應(yīng)用也越來(lái)越廣泛，如催化劑，磁性材料，精細(xì)陶瓷，緩釋藥物等。Hellix系統(tǒng)專注于超細(xì)顆粒制備，其微粒粒徑小且分布窄，微粒的大小和外觀可通過(guò)操作參數(shù)進(jìn)行調(diào)節(jié)，結(jié)晶微粒無(wú)有機(jī)溶劑殘留的優(yōu)點(diǎn)。

主要技術(shù)參數(shù)：

*同一系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)超臨界流體超細(xì)微粒制備的三種方式：超臨界溶劑快速膨脹方法（RESS），圧縮流體抗溶劑沉淀方法（PCA），超臨界抗溶劑方法（GAS）

***操作溫度可達(dá) 250℃

***操作壓力可達(dá) 10，000 psi (680bar)

***流量 50L/min （氣體），400ml/min（液態(tài)）

*可選配分離模塊

*模塊化的設(shè)計(jì)，可方便的進(jìn)行系統(tǒng)調(diào)整

*萃取釜承壓為 30，000 psi，萃取體積：5ml至4000ml可選，可根據(jù)用戶需求進(jìn)行定制。

*可添加夾帶劑 (夾帶劑泵的壓力為10，000 psi）

*觸摸屏電腦控制，人性化的操作界面

*微粒的粒徑小且分布窄（可達(dá)納米級(jí)）

*微粒的大小和外觀可通過(guò)控制操作參數(shù)進(jìn)行調(diào)整

*結(jié)晶微粒無(wú)溶劑殘留

*干燥氣凝膠

*可選配攪拌功能

*可選配液體逆流萃取

*可選配PSE（壓力溶劑萃?。┌?/span>

*三重過(guò)壓安全保護(hù)裝置及經(jīng)濟(jì)壓力釋放裝置

*ASI是超臨界技術(shù)的***，通過(guò)了ISO9001的質(zhì)量認(rèn)證，是超臨界領(lǐng)域**通過(guò)美國(guó)環(huán)保署綠色認(rèn)證的公司。