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納米二氧化硅拋光液
產(chǎn)品詳情
拋光范圍：硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學(xué)器件、藍寶石片等的拋光加工。金屬鏡面拋光
拋光特點：具有應(yīng)用領(lǐng)域廣、拋光效率高、雜質(zhì)含量低、拋光后容易清洗等特點。如：硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、寶石玉器等的拋光加工。
應(yīng)用范圍：納米氧化硅分散液具有粒徑小，溶度高，分散好等特點，用在拋光液中，以化學(xué)作用為主，添加螯合劑，活性劑，可以解決表面粗糙度，波紋度，表面缺陷等傳統(tǒng)問題，可以做光學(xué)鏡面拋光，寶石鏡面拋光等精密拋光。
拋光特點：具有應(yīng)用領(lǐng)域廣、拋光效率高、雜質(zhì)含量低、拋光后容易清洗等特點。如：硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、寶石玉器等的拋光加工。
制備納米二氧化硅有哪幾種方法目前國內(nèi)外制備納米二氧化硅的方法主要有物理法和化學(xué)法兩種。物理法一般采用高能球磨機或超聲波氣流磨機，將SiO2聚集體分多級粉碎，得到最終產(chǎn)品。產(chǎn)品粒徑一般為1-5μm。采用
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