粉碎程度：
其他單位能耗：
.產(chǎn)量：
.裝機(jī)功率（kw）：
.成品細(xì)度：
.入料粒度（mm）：
.工作原理：
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平面拋光機(jī)（研磨）
適用范圍：
廣泛用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、 石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、不銹鋼，光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光．
主要用途：
廣泛用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、不銹鋼，光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。
工作原理：
金實(shí)力研磨機(jī)為精密研磨拋光設(shè)備，被磨、拋材料放于研磨盤上，研磨盤逆時鐘轉(zhuǎn)動，修正輪帶動工件自轉(zhuǎn)，重力加壓的方式對工件施壓，工件與研磨盤作相對運(yùn)轉(zhuǎn)磨擦，來達(dá)到研磨拋光目的。
特點(diǎn)：
1．采用間隔式自動噴液裝置，可自由設(shè)定噴液間隔時間。
2．系列研磨機(jī)工件加壓采用氣缸加壓的方式，壓力可調(diào)； 拋光后工件表面光亮度高、無劃傷、無料紋、無麻點(diǎn)、不塌邊、平面度高等特點(diǎn)。拋光后工件表面粗糙度可達(dá)到Ra0.0002；平面度可控制在±0.002mm范圍內(nèi)。
3．系列研磨機(jī)采用PLC程控系統(tǒng)，觸摸屏操作面板，研磨盤轉(zhuǎn)速與定時可直接在觸摸屏上輸入。
特點(diǎn)：1．采用間隔式自動噴液裝置，可自由設(shè)定噴液間隔時間。2．系列研磨機(jī)工件加壓采用氣缸加壓的方式，壓力可調(diào)； 拋光后工件表面光亮度高、無劃傷、無料紋、無麻點(diǎn)、不塌邊、平面度高等特點(diǎn)。拋光后工件表面粗糙度可達(dá)到Ra0.0002；平面度可控制在±0.002mm范圍內(nèi)。
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