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| 退火溫度均勻性： | ±2.0℃ | 退火溫度準(zhǔn)確性： | ±2.0℃ |
| 降溫速率： | 30℃/s | **升溫速率： | 50℃/s |
| 溫度范圍： | 室溫~1200℃ | 樣品尺寸： | 2英寸 |
| 產(chǎn)地類別： | 進(jìn)口 | 儀器種類： | 高真空快速退火爐 |
| 價(jià)格區(qū)間： | 10萬(wàn)-30萬(wàn) |
快速熱處理（RTP）已經(jīng)成為半導(dǎo)體、鐵電體以及鍍膜行業(yè)的重要退火技術(shù)。但是目前，只有大型的、昂貴的生產(chǎn)設(shè)備才能完成快速熱處理，這大大降低了研發(fā)工作的效率（尤其是小的樣品）。為了滿足市場(chǎng)的需求，ADVANCE RIKO研發(fā)出MILA-5000系列的小型快速退火爐。此系列的設(shè)備包含紅外金面反射爐和高精度的溫度控制器。根據(jù)需求選配相應(yīng)的泵和氣體接口，MILA能提供與大型RTP設(shè)備相同的熱處理性能。
特點(diǎn)：
l 快速加熱及冷卻能力；
l 可在任意氣氛中使用；
l 實(shí)時(shí)觀測(cè)試樣；
l 精確的溫度控制；
型號(hào) | MILA-5000Series |
溫度范圍： | 室溫~1200℃ |
加熱功率： | 50℃/s（50~1200℃）真空 45℃/s（50~1200℃）氮?dú)夥諊?/span> |
溫度均勻性： | ±2.0℃（ΔT=4℃）1200℃真空 ±4.5℃（ΔT=9℃）1200℃氮?dú)夥諊?/span> |
加熱氣氛: | 大氣、真空、惰性氣氛環(huán)境下 |
試樣尺寸: | MAX：50 square or φ 50 x T5 (mm) |
程序模組： | 溫度VS時(shí)間設(shè)定、Step數(shù)256、Program數(shù)32（Max）； PID+Fuzzy控制、自動(dòng)微調(diào)、USB通訊、自動(dòng)/手動(dòng)切換； |
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