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CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

AEROSIL?氣相法二氧化硅可用于制造復(fù)雜的齒科材料的配方中以達(dá)到高的填充量。這主要?dú)w功于經(jīng)過(guò)后處理的AEROSIL?氣相法二氧化硅，其增稠效果低，從而提供了高填充性的可能AEROSIL?DT 4通過(guò)結(jié)構(gòu)改性可以隨意引入塑料牙制作配方中，幾乎不影響材料的流變性。添加AEROSIL?R 711可以得到特別堅(jiān)固的復(fù)合物，這種經(jīng)過(guò)后處理的氣相法二氧化硅有很強(qiáng)的增稠作用，加入少量就能夠影響流變性。AEROSIL ?OX 50因其寬的粒度分布而用于齒科塑料的基本材料。在制造復(fù)合材料時(shí)，AEROSIL?氣相法二氧化硅對(duì)塑料牙齒、填充物、鑲飾物及牙冠的顏色沒(méi)有任何不利的影響。

納米材料分散 

目前，XX產(chǎn)品質(zhì)量較好的企業(yè)使用的分散方式主要采取一步法的高速剪切分散，能基本滿(mǎn)足用戶(hù)的需要。由于我們行業(yè)的特點(diǎn)，有相當(dāng)多的中小企業(yè)分散設(shè)備十分落后，分散時(shí)根本形成不了剪切力，只是一種攪拌，氣相二氧化硅在樹(shù)脂中根本形成不了網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，從而無(wú)法發(fā)揮材料的性能。造成這種情況的主要原因① 尚未對(duì)分散的作用有正確的認(rèn)識(shí)．許多生產(chǎn)商并未意識(shí)到分散的重要性；② 不知道對(duì)*終產(chǎn)品的品質(zhì)如何評(píng)價(jià)，

    研磨時(shí)間對(duì)粉體產(chǎn)品細(xì)度的影響一般而言，研磨時(shí)間越長(zhǎng)，則研磨效果越好，

但顆粒的細(xì)化達(dá)到一定程度則很難再進(jìn)一步細(xì)化。因?yàn)殡S著顆粒粒度的減小，比表面積迅速增大，顆粒表面激活點(diǎn)增多，表面自由能增大，體系處于極不穩(wěn)定狀態(tài)，微細(xì)顆粒間則彼此團(tuán)聚形成“假顆粒”，以降低比表面積；若再延長(zhǎng)研磨時(shí)間，輸入體系的能量則用于粉碎“假顆?！?，“假顆粒”粉碎后又很快重新團(tuán)聚，整個(gè)體系處于團(tuán)聚—磨細(xì)的動(dòng)態(tài)平衡中，從而大大降低了研磨能力和效率。

分散劑對(duì)粉體產(chǎn)品細(xì)度的影響

在超細(xì)研磨過(guò)程中，一方面物料顆粒接受施能被粉碎，另一方面被磨細(xì)顆粒因表面能增大又極易

團(tuán)聚在一起，形成“假顆粒”，“假顆粒”被粉碎后又團(tuán)聚。因此在研磨進(jìn)行到一定程度時(shí)，過(guò)程已處于團(tuán)聚—磨細(xì)的動(dòng)態(tài)平衡中，研磨效率大大降低。分散劑是濕法超細(xì)研磨中的重要調(diào)節(jié)因素。對(duì)于超細(xì)磨，添加一定量的分散劑以后，因與物料間的吸附作用，改變了顆粒間的相互依從狀態(tài)，使細(xì)顆粒物料保持分散狀態(tài)，分散劑并能吸附在物料表面降低表面能，改善漿料的流變性，使研磨效率提高

上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。簡(jiǎn)單的說(shuō)就是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級(jí)模塊，加入了一級(jí)分散盤(pán)?？筛鶕?jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇） IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm，是目前國(guó)產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

在做納米粉體分散或研磨時(shí)，因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過(guò)程中，范德華力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C(jī)來(lái)控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級(jí)粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
    

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

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