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納米二氧化硅分散液高速分散機(jī)
納米二氧化硅分散液高速分散機(jī)

參考價格

5-10萬元

型號

ERS2000

品牌

IKN

產(chǎn)地

德國

樣本

暫無
上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司

金牌會員

|

第15年

|

生產(chǎn)商

工商已核實(shí)

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核心參數(shù)
  • 能耗:

    0-40
  • 處理量:

    0-500L/H
  • 物料類型:

    其它
  • 工作原理:

    立式
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納米二氧化硅分散液高速分散機(jī),納米二氧化硅分散液四級分散機(jī),納米二氧化硅分散液進(jìn)口分散機(jī),納米二氧化硅分散液德國分散機(jī),納米二氧化硅分散液管線式分散機(jī),納米二氧化硅分散液分體式分散機(jī)

 

 

IKN分散機(jī)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封,在保證冷卻水的前提下,可24小時連續(xù)運(yùn)行。而普通乳化機(jī)很難做到連續(xù)長時間的運(yùn)行,并且普通乳化機(jī)不能承受高轉(zhuǎn)速的運(yùn)行

 

 

納米二氧化硅分散液,半透明液體,主要用于涂料、耐火材料、紡織工業(yè)等,具有耐水、耐火、耐洗刷、耐污性能。納米二氧化硅分散到液體之后,依據(jù)不同的分散體系,其外觀從白色乳狀到無色透明。

納米二氧化硅分散到液體之后,依據(jù)不同的分散體系,其外觀從白色乳狀到無色透明。從檢測上來看D90<100納米以下的體系,在外觀上都呈現(xiàn)視覺透明的狀態(tài)。納米的分散是一個世界性的技術(shù)難題。可喜的是目前出現(xiàn)了某些技術(shù),使用某些納米顆??梢越馍⒌絾畏稚⒌臓顟B(tài)。其中之一就有納米二氧化硅。

 


納米材料的分散 目前,國內(nèi)產(chǎn)品質(zhì)量較好的企業(yè)使用的分散方式主要采取一步法的高速剪切分散,能基本滿足用戶的需要。由于我們行業(yè)的特點(diǎn),有相當(dāng)多的中小企業(yè)分散設(shè)備十分落后,分散時根本形成不了剪切力,只是一種攪拌,氣相二氧化硅在樹脂中根本形成不了網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),從而無法發(fā)揮材料的性能。造成這種情況的主要原因① 尚未對分散的作用有正確的認(rèn)識.許多生產(chǎn)商并未意識到分散的重要性;② 不知道對***終產(chǎn)品的品質(zhì)如何評價,

CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

**級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?/span> 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

 

 

 

從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn):

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

 

線速度的計(jì)算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

 

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

型號

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%

 

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13795214885  賈清清



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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價比

10分
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