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插層石墨研磨分散機(jī)
插層石墨研磨分散機(jī)

參考價(jià)格

5-10萬元

型號(hào)

CMD2000

品牌

IKN

產(chǎn)地

德國(guó)

樣本

暫無
上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司

金牌會(huì)員

|

第15年

|

生產(chǎn)商

工商已核實(shí)

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核心參數(shù)
  • 能耗:

    0-40
  • 處理量:

    0-500L/H
  • 物料類型:

    其它
  • 工作原理:

    立式
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插層石墨研磨分散機(jī),納米插層石墨研磨分散機(jī),高剪切插層石墨研磨分散機(jī),插層石墨高速研磨分散機(jī),插層石墨分散設(shè)備,IKN研磨分散機(jī),德國(guó)進(jìn)口研磨分散機(jī)

 

CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

 

插層石墨研磨設(shè)備 是一種利用物理或化學(xué)的方法使非碳質(zhì)反應(yīng)物插入石墨層間,與碳素的六角網(wǎng)絡(luò)平面結(jié)合的同時(shí)又保持了石墨層狀結(jié)構(gòu)的晶體化合物。石墨插層化合物不僅保留了石墨原有的理化性質(zhì),而且由于插入物質(zhì)與碳層之間的相互作用而呈現(xiàn)出石墨與插層物質(zhì)均不具備的一些新的特性

高導(dǎo)電率材料、電池材料、密封材料由于石墨層間化合物的內(nèi)表面積非常大,而且具有選擇性的吸附作用,所以可以用作催化劑。用.GIC作為催化劑, 成本低, 收率高, 且容易將反應(yīng)控制在更加溫和的條件下進(jìn)行。

當(dāng)前主要瓶頸有兩點(diǎn),一是低成本高品質(zhì)石墨烯原料的規(guī)?;a(chǎn),二是石墨烯的商業(yè)化應(yīng)用。有人可能覺得第  納米研磨分散機(jī)是由膠體一個(gè)已不是問題,因?yàn)橐延卸鄠€(gè)十噸乃至百噸級(jí)產(chǎn)線投產(chǎn),規(guī)?;此埔延卸?。事實(shí)真是如此嗎?除了產(chǎn)能,我認(rèn)為更重要的是品質(zhì),因?yàn)樵系钠焚|(zhì)直接決定其應(yīng)用屬性。對(duì)于實(shí)際應(yīng)用,純度是否足夠高?批次穩(wěn)定性如何?成本是否還有壓縮空間?生產(chǎn)過程可否更綠色?技術(shù)的進(jìn)步永無止境,可靠的原料永遠(yuǎn)是石墨烯產(chǎn)業(yè)化的基石。

對(duì)于第二點(diǎn),我想大家談的比較多了,這是產(chǎn)品出路和價(jià)值體現(xiàn)的問題,非常關(guān)鍵,但也很難。作為一種新材料,石墨烯的前十年屬于應(yīng)用發(fā)散期,即大家認(rèn)為石墨烯幾乎是**的,然后在不同領(lǐng)域嘗試應(yīng)用,是在做加法。目前,我們已步入應(yīng)用集中期,要開始做減法了,因?yàn)榇蟛糠譂撛趹?yīng)用在實(shí)踐中被證實(shí)并無實(shí)用價(jià)值,或是技術(shù)上,或是商業(yè)上。在這個(gè)階段,產(chǎn)業(yè)鏈上下游的互動(dòng)非常必要。我們必須面向用戶進(jìn)行二次開發(fā),去解決分散和成型等共性技術(shù)難題,讓石墨烯更接“地氣”。*終交給用戶的,不僅是高品質(zhì)的材料,還有配套的應(yīng)用解決方案,也就是solution。

 

插層石墨研磨設(shè)備

 

上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。簡(jiǎn)單的說就是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤。可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,是目前國(guó)產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

 

在做納米粉體分散或研磨時(shí),因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過程中,范德華力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C(jī)來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級(jí)粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
    

  

CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 



創(chuàng)新點(diǎn)

CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

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