北京匯德信科技與您相約江蘇!2025第三代半導(dǎo)體SiC晶體生長及晶圓加工技術(shù)研討會
隨著科學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展,半導(dǎo)體材料的革新速度也進(jìn)一步加快。當(dāng)前,碳化硅作為第三代半導(dǎo)體材料的典型代表,在新能源汽車、光伏、儲能等新興領(lǐng)域正快速滲透,已成為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的前沿和制高點(diǎn)。同時(shí),我國“十四五”規(guī)劃已將碳化硅半導(dǎo)體納入重點(diǎn)支持領(lǐng)域,碳化硅半導(dǎo)體將在我國5G基站建設(shè)、特高壓、城際高速鐵路和城市軌道交通、新能源汽車充電樁、大數(shù)據(jù)中心等新基建領(lǐng)域發(fā)揮重要作用。
近年來,我國在SiC材料領(lǐng)域取得了顯著進(jìn)展,但與國際先進(jìn)水平相比,在晶體生長技術(shù)、晶圓加工技術(shù)等方面仍存在一定差距。SiC晶體生長過程中面臨著晶體缺陷控制、生長速率提升、晶體質(zhì)量穩(wěn)定性等難題;晶圓加工方面,則存在加工精度不足、良品率低、加工成本較高等挑戰(zhàn)。在當(dāng)前倡導(dǎo)節(jié)能減排的大趨勢下,快速穩(wěn)定地突破碳化硅單晶尺寸和質(zhì)量等關(guān)鍵問題,才能夠更好地占據(jù)未來碳化硅市場。
在此背景下,中國粉體網(wǎng)將于2025年8月21日在江蘇·蘇州舉辦第三代半導(dǎo)體SiC晶體生長及晶圓加工技術(shù)研討會,大會將匯聚國內(nèi)行業(yè)專家、學(xué)者、技術(shù)人員、企業(yè)界代表圍繞晶體生長工藝、關(guān)鍵原材料、生長設(shè)備及應(yīng)用、碳化硅晶片切、磨、拋技術(shù)等方面展開演講交流。北京匯德信科技有限公司作為參展單位邀請您共同出席。
自1999年成立以來,北京匯德信科技有限公司始終秉承“誠信、專業(yè)、創(chuàng)新”的宗旨,將國際上先進(jìn)的納米科學(xué)技術(shù)設(shè)備引進(jìn)到國內(nèi)。我們與德國亞琛工業(yè)大學(xué)、德國明斯特大學(xué)、德國斯圖加特大學(xué)、德國卡爾斯魯爾納米中心及德國Max-Planck研究所等知名科研院所有著緊密的合作,并系統(tǒng)地代理了Allresist(光刻膠)、Novocontrol(寬頻介電阻抗譜儀)、 Keller(紅外測溫儀)等多家國際知名高新技術(shù)企業(yè)產(chǎn)品。產(chǎn)品覆蓋了微納米制造、檢測、分析等相關(guān)領(lǐng)域。產(chǎn)品已經(jīng)被國內(nèi)眾多科研院所、大學(xué)及工業(yè)用戶使用,并得到用戶一致好評和認(rèn)可。
作為幾十家國際知名品牌的國內(nèi)獨(dú)家代理,匯德信已建立起以客戶為中心,為客戶解決科研需求的銷售團(tuán)隊(duì)和專業(yè)的技術(shù)支持隊(duì)伍。公司不定期地組織技術(shù)人員出國培訓(xùn),提升技術(shù)水平,更好地為客戶提供技術(shù)解決方案。
基于長期的合作信任關(guān)系及業(yè)務(wù)增長態(tài)勢,2017年我們與德國Raith公司成立了合資企業(yè),將電子束光刻機(jī)業(yè)務(wù)劃分出來,與廠商更緊密合作,共同努力為國內(nèi)用戶提供優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品和服務(wù)。
2019年匯德信在常州成立分公司,獲得資質(zhì)專門銷售光刻膠產(chǎn)品。
匯德信將一如既往地為國內(nèi)用戶尋找國際領(lǐng)先的創(chuàng)新型產(chǎn)品,服務(wù)用戶,共創(chuàng)未來!
產(chǎn)品介紹
1、高分辨紫外/深紫外PHABLE光刻機(jī)(全息光刻系統(tǒng))
EULITHA AG公司開發(fā)的PHABLE大面積、低成本的納米圖形化方案,采用突破性的Displacement Talbot Lithography專利技術(shù)。相比傳統(tǒng)的電子束光刻、投影式光刻機(jī)、納米壓印等納米結(jié)構(gòu)方案中,遇到的生產(chǎn)效率、良率、生產(chǎn)成本等問題,PHABLE光刻技術(shù)提供了高精度、高均勻性、低缺陷率、高產(chǎn)率的解決方案。
應(yīng)用領(lǐng)域:
照明、激光器、光通信、高端顯示、太陽能、傳感器、仿生等。
特點(diǎn)及優(yōu)勢:
穩(wěn)定的納米級分辨能力;
大面積全域曝光,無需拼接;
無限制DOF,厚膠、表面翹曲無影響;
雙工作模式:
全息光刻模式:周期性納米結(jié)構(gòu);
掩膜對準(zhǔn)光刻模式:任意微米級結(jié)構(gòu)。
簡化的曝光流程,可實(shí)現(xiàn)一鍵式曝光
靈活的客戶定制化方案
指標(biāo):
光源 | UV (near-i line) | DUV (248nm) | DUV (193nm) |
曝光面積 | 4、6、8英寸,全域曝光 | ||
分辨率 | <100nm | <80nm | <50nm |
圖形周期范圍 | 250-1100 nm | 165-900 nm | 125-800 nm |
圖形占空比范圍 | 30-50% | ||
套刻對準(zhǔn)及精度 | 手動(dòng)對準(zhǔn),套刻精度 ±2 μm | ||
操作方式 | 手動(dòng)裝片,自動(dòng)曝光 | ||
參數(shù)設(shè)置 | PLC觸屏 | Windows系統(tǒng)PC |
2、Novocontrol寬頻介電阻抗譜儀
Novocontrol GmbH是德國一家專業(yè)的電介質(zhì)頻率譜、阻抗譜、溫度譜等電介質(zhì)材料物理量測量儀器的生產(chǎn)廠家,創(chuàng)立于1980年,其與馬克思•普朗克科學(xué)促進(jìn)學(xué)會多聚體研究所的科學(xué)家們聯(lián)合開發(fā)研制出先進(jìn)的全系列寬頻介電阻抗譜儀(介電譜)。
Novocontrol的介電譜儀可以通過與Keysight高頻分析儀的結(jié)合達(dá)到很寬的頻率范圍(3μHz~3GHz);能靈敏地測量極低電導(dǎo)率和極低損耗的材料(分辨率可達(dá)10-5);具有極寬的阻抗分析范圍(10mΩ~100TΩ);不但可以測量各種固體、薄膜材料,還可以測量液體,粉末等樣品材料;其自主研發(fā)的全自動(dòng)在線控制軟件可以實(shí)時(shí)進(jìn)行多達(dá)三十多種不同參數(shù)的測量與分析。
三種不同溫度范圍的溫度控制系統(tǒng),可以滿足不同電介質(zhì)材料測量時(shí)對溫度范圍和控溫精度的不同要求,另外我們還提供溫度高達(dá)1200℃~1600℃的高溫爐系統(tǒng),用于研究電介質(zhì)材料在高溫條件下的介電性能。
Novocontrol不但可提供完整的電介質(zhì)參數(shù)測量系統(tǒng),也可根據(jù)客戶的需求提供相應(yīng)的部件,例如阻抗分析儀、樣品架、溫度控制系統(tǒng)和分析軟件等。也可以為用戶測量一定數(shù)量的實(shí)驗(yàn)樣品。
Novocontrol寬頻介電阻抗譜儀不僅是實(shí)驗(yàn)室開發(fā)和研究新材料的重要測量手段,也是生產(chǎn)質(zhì)量控制和優(yōu)化生產(chǎn)工藝的強(qiáng)有力的工具。Novocontrol寬頻介電阻抗譜儀廣泛應(yīng)用于化學(xué)、物理化學(xué)、電化學(xué)、電子、電工工程、半導(dǎo)體、材料科學(xué)、生物學(xué)和制藥等領(lǐng)域,特別是聚合物、樹脂、陶瓷、橡膠、玻璃、液晶、石油、懸浮體以及半導(dǎo)體晶片及器件等的研究。目前其用戶包括多個(gè)國家的科研院所和400多家國際企業(yè)。
主要產(chǎn)品和參數(shù)
一、介電與阻抗分析
頻率范圍 | 3μHz~40MHz(up to 3GHz with Keysight E4991B) |
阻抗范圍 | 10m Ohm~100TOhm |
電容范圍 | 1fF~1F |
相位差精度 | 2*10-3 |
損耗精度:(tan(δ)) | 3*10-5 |
測量電壓 | 10-6~3V |
直流偏壓 | ±40V |
測量方式 | 自動(dòng)修正、自動(dòng)基準(zhǔn)、手動(dòng)基準(zhǔn) |
接口總線 | GPIB/IEEE488 |
二、溫度控制系統(tǒng)
溫度范圍為-160到400℃,可根據(jù)不同的需求選取不同的溫度范圍和控制精度。
QUATRO Cryosystem | -160~+400℃ |
NOVOCOOL | -100~+250℃ |
NOVOTHERM | 室溫~+400℃ |
NOVOTHERM-HT | 室溫~1600℃ |
PHECOS | -50℃ ~ 200℃ |
會務(wù)組
聯(lián)系人:段經(jīng)理
電話:13810445572
郵箱:duanwanwan@cnpowder.com
識別二維碼了解更多會議信息
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地點(diǎn):
時(shí)間:2025/06/24 - 2025/06/26