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隨著科學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展，半導(dǎo)體材料的革新速度也進(jìn)一步加快。當(dāng)前，碳化硅作為第三代半導(dǎo)體材料的典型代表，在新能源汽車、光伏、儲(chǔ)能等新興領(lǐng)域正快速滲透，已成為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的前沿和制高點(diǎn)。同時(shí)，我國(guó)“十四五”規(guī)劃已將碳化硅半導(dǎo)體納入重點(diǎn)支持領(lǐng)域，碳化硅半導(dǎo)體將在我國(guó)5G基站建設(shè)、特高壓、城際高速鐵路和城市軌道交通、新能源汽車充電樁、大數(shù)據(jù)中心等新基建領(lǐng)域發(fā)揮重要作用。

近年來，我國(guó)在SiC材料領(lǐng)域取得了顯著進(jìn)展，但與國(guó)際先進(jìn)水平相比，在晶體生長(zhǎng)技術(shù)、晶圓加工技術(shù)等方面仍存在一定差距。SiC晶體生長(zhǎng)過程中面臨著晶體缺陷控制、生長(zhǎng)速率提升、晶體質(zhì)量穩(wěn)定性等難題；晶圓加工方面，則存在加工精度不足、良品率低、加工成本較高等挑戰(zhàn)。在當(dāng)前倡導(dǎo)節(jié)能減排的大趨勢(shì)下，快速穩(wěn)定地突破碳化硅單晶尺寸和質(zhì)量等關(guān)鍵問題，才能夠更好地占據(jù)未來碳化硅市場(chǎng)。

在此背景下，中國(guó)粉體網(wǎng)將于2025年8月21日在江蘇·蘇州舉辦第三代半導(dǎo)體SiC晶體生長(zhǎng)及晶圓加工技術(shù)研討會(huì)，大會(huì)將匯聚國(guó)內(nèi)行業(yè)專家、學(xué)者、技術(shù)人員、企業(yè)界代表圍繞晶體生長(zhǎng)工藝、關(guān)鍵原材料、生長(zhǎng)設(shè)備及應(yīng)用、碳化硅晶片切、磨、拋技術(shù)等方面展開演講交流。蘇州錦業(yè)源自動(dòng)化設(shè)備有限公司作為參展單位邀請(qǐng)您共同出席。

蘇州錦業(yè)源自動(dòng)化設(shè)備有限公司（隸屬于錦源科技控股有限公司）成立于2011年8月，是一家專業(yè)從事半導(dǎo)體封裝、電子陶瓷（LTCC，HTCC）生產(chǎn)及設(shè)備代理的專業(yè)服務(wù)商，尤為擅長(zhǎng)提供微組裝整線及電子陶瓷整線工藝、生產(chǎn)解決方案和技術(shù)支援。

目前，公司主要合作伙伴來自歐洲及日本，合力為業(yè)界廣大客戶提供一流的產(chǎn)品及方案，同時(shí)提供專業(yè)技術(shù)顧問，咨詢服務(wù)。

公司發(fā)展至今，培養(yǎng)了具備核心競(jìng)爭(zhēng)力的人才團(tuán)隊(duì)，擁有具備專業(yè)素養(yǎng)的若干售前、售后及銷售人員，可積極快速響應(yīng)客戶要求并提供優(yōu)質(zhì)、高效、稱心的服務(wù)，為客戶創(chuàng)造價(jià)值，贏得效益。

基于客戶多年來的信任及認(rèn)可，我們將持續(xù)秉承技術(shù)引領(lǐng)方向、經(jīng)驗(yàn)規(guī)避風(fēng)險(xiǎn)、服務(wù)決定未來、伙伴一起成長(zhǎng)!”的宗旨，推動(dòng)行業(yè)發(fā)展，精心服務(wù)用戶，求是創(chuàng)新，更創(chuàng)輝煌!

產(chǎn)品介紹

1、全自動(dòng)單晶圓清洗機(jī) AST-T02-CL

設(shè)備功能及特點(diǎn)：

晶圓全自動(dòng)清洗機(jī)，8”/12” 共享機(jī)臺(tái)，切換只需更換FOUP內(nèi) Adaptor。

具備多功特性，針對(duì)不同應(yīng)用，集成不同功能。具備高速離心旋轉(zhuǎn)、HPC、二流體、SC1 化學(xué)清洗及能加裝兆聲波等功能。

適用于 Particle 清洗、Flux 清洗及光阻殘留清洗等制程 。

流場(chǎng)模擬腔體設(shè)計(jì)，獨(dú)特的密封設(shè)計(jì)，為制程提供最潔凈的清洗環(huán)境。

友善的軟件接口，提供量產(chǎn)和工程安全便利的芯片制程。

2、單晶圓/陶瓷片超聲波光阻噴涂機(jī)

設(shè)備功能及特點(diǎn)：

本機(jī)是全自動(dòng)的超聲波噴涂機(jī)臺(tái)，可實(shí)現(xiàn)取片、對(duì)位、噴涂、去邊、烘烤、放片等全自動(dòng)作業(yè)。超聲波噴涂是利用壓電材料將電能轉(zhuǎn)換為機(jī)械能，以震蕩的方式來霧化流體，可以得到均勻且微細(xì)的涂布液滴，以溫和且微細(xì)的液滴從基材正上方開始沉積涂布，階梯覆蓋率的表現(xiàn)更為優(yōu)越，也能有效提高材料利用率。利用轉(zhuǎn)速跟噴頭移動(dòng)速度做配合，進(jìn)行連續(xù)性的旋轉(zhuǎn)噴涂，可有效提高產(chǎn)能，更可消除一般設(shè)備來回噴涂時(shí)，因路徑不同所造成的膜厚落差。并且本機(jī)采用大口徑的供料流道設(shè)計(jì)，能有效避免管路堵塞的發(fā)生，減少設(shè)備停機(jī)維修時(shí)間，提高設(shè)備使用的稼動(dòng)率。腔體結(jié)構(gòu)導(dǎo)入流場(chǎng)數(shù)值模擬規(guī)劃，用以進(jìn)行優(yōu)化流道幾何設(shè)計(jì)，避免粒子回流污染涂布腔體。

3、高精度光刻機(jī)

設(shè)備特點(diǎn):

UV-LED光源

安全又環(huán)保 無需預(yù)熱冷卻

選用 UV-LED 光源不再需 要預(yù)熱和冷卻，因?yàn)?LED 僅 在曝光期間打開。這些因素 顯著有助于相對(duì)較低的能源 消耗。LED 的使用壽命比傳 統(tǒng)燈高出許多倍，從而降低 了更換燈泡所產(chǎn)生的成本。 停工、購(gòu)買新燈、調(diào)整和處 理舊材料都已成為過去。使 用 LED 燈箱既安全又環(huán)保， 是健康和職業(yè)安全以及環(huán)境 保護(hù)方面的重要進(jìn)步。

高精度自動(dòng)套刻系統(tǒng)

性能提升 品質(zhì)升級(jí)

作為全場(chǎng)曝光系統(tǒng)， CI-150A/CI-200A能夠一 次曝光150mm/200mm 晶圓,此系統(tǒng)光均勻性已 超過95%，更能提升產(chǎn) 品品質(zhì)。它更高的吞吐 量和更低的投資成本直 接轉(zhuǎn)化為更低的擁有成 本，使其成為適用于各 種光刻工藝的最佳決方案。

卓越的光均勻性

高精度 更精準(zhǔn)

采用頂部對(duì) 準(zhǔn)系統(tǒng)， 選用高 清相機(jī)及大視野 鏡頭， 納米級(jí)對(duì) 位承載平臺(tái)以及 低頻隔振系統(tǒng)， 在將掩模定位在 晶圓上時(shí)可實(shí)現(xiàn) 低至 0.5 μm 的 對(duì)準(zhǔn)精度 。

會(huì)務(wù)組

聯(lián)系人：段經(jīng)理

電話：13810445572

郵箱：duanwanwan@cnpowder.com

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